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等离子制砣设备
等离子制砣设备
一种等离子制砣用的挥发物收集装置的制作方法
2022年5月18日 一种等离子制砣用的挥发物收集装置的制作方法 1本公开涉及石英玻璃制造领域，具体涉及一种等离子制砣用的挥发物收集装置。 2高频等离子制砣工艺是采用2000度左右高频等离子火焰来融制石英砣产品的，在产品融 2022年7月27日 19国家知识产权局1实用新型专利10授权公告号45授权公告日1申请号9申请日01111173专利权人久智光电子材料科技有限公司地址河北省廊坊 一种等离子制砣用的挥发物收集装置 道客巴巴2015年12月23日 械设备领域，主要目的在于使制砣机能够制备出 大尺寸的石英玻璃。 主要采用的技术方案为 ：石 英玻璃制砣机，包括底座、升降座、升降机构和主 轴。石英玻璃制砣机[发明专利] 百度文库2018年6月15日 一种石英加工的打砣设备及其打砣方法与流程 本发明涉及石英加工设备领域，特别是一种石英加工的打砣设备及其打砣方法。 背景技术： 大尺寸石英棒的生产常规用石英砣 一种石英加工的打砣设备及其打砣方法与流程 X技术网
一种低羟基高纯石英砣生产工艺 百度学术
2023年2月27日 摘要： 本发明涉及一种低羟基高纯石英砣生产工艺,该工艺基于一种制备系统来实现,制备系统包括给料系统,沉积炉,制砣机,高频加热系统,燃烧器和供气系统;高频加热系统产 摘要： 本申请公开了一种等离子制砣用的挥发物收集装置。 包括：管道本体和排放装置，本申请设计有管道本体，其包括管道和第二管道，管道的一端与第二管道的一端垂直连接， 一种等离子制砣用的挥发物收集装置[0001]本发明涉及机械设备技术领域，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。 【背景技术】 [0002]石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成； 石英玻璃制砣机的制作方法2008年11月17日 详细介绍了不同的天然、合成原料的加工工艺；电熔、气炼、合成、等离子、掺杂石英玻璃的不同熔制工艺；石英制品的热加工、冷加工及热处理方法；电弧法生产石英坩埚 图书详情 化学工业出版社有限公司 cip
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等离子预处理是对几乎所有类型材料（从塑料、金属和玻璃到纸板、纺织品和复合材料）进行微细清洁、表面活化和等离子镀膜的关键技术。 越来越多的传统工业预处理方法正在被等离子技术取代，以使加工工艺更为有效和环保。 创新对于 2007年3月9日 内容包括:热等离子体源,等离子冶金、 化工、超细粉合成、喷涂;低气压非平衡等离子体源,镀膜,表面改性,等离子浸没离子注入;电晕放电,介 质阻挡放电,滑动弧等及其应用我国等离子体工艺研究进展 iphy2020年10月26日 与等离子熔融工艺石英玻璃成型设备配套的真空系统框如 £ 2 所示，可实现 成型设备加热桶内的真空度（气压）在01~700Torr范围内的精确控制，控制精度可 达到±1%以内。 £ 2 真空系统框 如 £ 2所示，真空系统的设计采用了下游控制模式，也可 在等离子熔融工艺过程中，将高纯石英砂注入到旋转炉中 2014年5月10日 CVD制程工艺及设备介绍等离子体（Plasma）形成中电子碰撞引发的过程类型 说明分解(Dissociation) e+CCl4 →e+Cl+CCl3电离(Ionization) e+Ar→2e+ Ar+激发(Excitation) 电子跃迁图例PECVD 原理反应气体在高温和高频射频电源作用下形成等离子体（整体呈现 CVD制程工艺及设备介绍百度文库
石英玻璃制砣机[发明专利] 百度文库
2015年12月23日 3 CN A 说明书 1/8 页 Fra Baidu bibliotek 石英玻璃制砣机 技术领域 [0001] 本发明涉及机械设备技术领域，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。 背景技术 [0002] 石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分 布 2008年11月17日 331引言61 332CVD工艺61 333VAD合成工艺65 34高频等离子火焰熔制合成石英玻璃砣及粉料厚壁管66 341高频等离子体生成原理和设备67 342立式熔制实心砣70 343卧式熔制厚壁管72 3 5掺杂石英玻璃72 351掺杂石英玻璃的掺杂 图书详情 化学工业出版社有限公司 cip2014年5月10日 CVD制程工艺及设备介绍人为产生等离子体的主要方法 其中辉光放电(Glow Discharge）所产生的等离子体在薄膜材料的制备技术中得到了非常广泛 的应用，Sputter和CVD设备采用的正是辉光放电来产生等离子体。 等离子体（Plasma）形成中电子碰撞引发的 CVD制程工艺及设备介绍百度文库本发明涉及一种低羟基实心石英砣的制备方法，属石英玻璃熔制技术领域。它是用等离子体装置作为热源，取代传统气炼制砣设备中的氢氧焰燃烧器，将石英粉料送入等离子体装置中或通过下料管进入火焰区，喷洒到石英玻璃靶托上，通过石英靶托的匀速旋转和下降运动，使靶面与等离子火焰 CNA 一种低羟基实心石英砣的制备方法 Google
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玻璃材料中的这颗“皇冠”，如何打造？要闻资讯中国粉体网
2024年10月10日 等离子体熔制法是采用等离子体为热源，高纯石英砂为原料，直接熔融制备得到石英玻璃。 该方法熔制过程中不会引入外界杂质，因而采用等离子熔制法制备的石英玻璃纯度高、羟基含量低。2018年8月30日 光纤行业要求石英材料的红外透过能力，只能选择高纯进口粉料+等离子制砣工艺制取的石英材料，或采用化学合成工艺制取的合成石英材料；半导体工艺尽量选择气炼法或等离子法取得的材料，电光源等低价值应用本身不要求石英材料的高纯度，所以可以选择低【干货】做半导体用石英材料的10年经验总结工艺2019年1月3日 2、等离子化学气相沉积工艺（PCVD） 等离子化学气相沉积工艺是指采用高纯SiCl4为原料，以高频等离子体火焰代替氢氧火焰气相合成石英玻璃。 与传统电熔工艺制备的石英玻璃统称为红外石英玻璃，国内牌号为JGS3。技术 一文了解光学合成石英玻璃的制备工艺及优缺点！本发明涉及机械设备，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。背景技术石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成；或采用含硅前驱体(通常为SiCl4)原料经水解或氧化反应产生的S1jfi米颗粒在石英基底表面沉积熔融制备而成。石英玻璃制砣机是制备上述 石英玻璃制砣机的制作方法
等离子旋转电极雾化制粉设备 中航迈特
等离子旋转电极雾化制粉设备（AVIPREP），主要用于制备镍基高温合金粉末、钛合金粉末、不锈钢粉末及难熔金属粉末等，粉末产品综合性能优异，广泛应用于增材制造（3D打印）、热喷涂、粉末冶金、热等静压等制造工艺。2015年12月21日 【技术实现步骤摘要】 本技术涉及机械设备，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。 技术介绍 石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成；或采用含硅前驱体(通常为SiCl4)原料经水解或氧化反应产生的S1jfi米颗粒在石英基底表面沉积熔融制备而成。石英玻璃制砣机制造技术，cvd制石英玻璃专利技高网2021年3月24日 石英砣技术也是朝着“精、净、大、专”方向发展。制备石英砣的工艺主要有气炼制砣和等离子制砣。气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣；等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。各种高端石英制品还是技术参数 中建材衢州金格兰2022年9月30日 二步法通过制成石英砣来二次加工成石英制品，这种方法的优点是生产工艺灵活。制砣的工艺主要有气炼制砣和等离子制砣。气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣；等离子制砣是利用等离子体为热源，将原料熔化沉积制砣。气炼石英砣生产工艺百度知道
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半导体用石英材料知识
2020年4月4日 光纤行业要求石英材料的红外透过能力，只能选择高纯进口粉料+等离子制砣工艺制取的石英材料，或采用化学合成工艺制取的合成石英材料；半导体工艺尽量选择气炼法或等离子法取得的材料，电光源等低价值应用本身不要求石英材料的高纯度，所以可以选择低找等离子处理设备品牌，上阿里巴巴1688 海量货源 首单包邮 48小时发货 7+天包换 共找到 4766条 真空等离子清洗机设备 半导休 镀膜前处理 PCB制程 元器件封装前 震华 等离子处理设备等离子处理设备价格、图片、排行 阿里巴巴与其它雾化工艺相比,自行研究设计的钛合金超音速等离子雾化工艺替代了传统坩埚加热的工艺且具有更高的冷却效率。 制得的钛合金粉末粒度多集中在5074μm之间,属于部分细粉范围内,可应用于医疗级及航空级等领域应用范畴, 钛合金粉体等离子雾化制备设备及工艺研究 百度学术后在上海石英玻璃厂完善提高，形成批量生产。98产量2吨，150万。 36引进等离子二步法工艺 北京605厂从法国引进二步法装备，等离子打砣机三台，无接触拉管设备，生产高质量石英 玻璃管，主要用于光纤包皮管。98产量12吨，800万。石英管生产工艺大全 百度文库
2019年 中国等离子体控制技术（PCT）行业概览
2020年8月31日 等离子体控制技术行业上游设备对外依存度高，中国大 陆等离子体控制技术应用相关设备制造商需依靠进口供 应，加大中游应用设备制造商的研发成本。 在国家利好政策的推动下，中国等离子体控制技术应用 相关设备制造商在部分生产设备逐步实现了技术突破。2023年3月31日 包裹体、粒度分布与颗粒形状对产品的影响，梳理了电熔法、气炼法和等离子体熔制法等熔融石英玻璃制备工艺现状及改进措 施发展，提出了存在的问题及今后发展建议，为熔融石英玻璃产业的发展提供参考。关键词 熔融石英玻璃；制备工艺；高纯石英熔融石英玻璃制备工艺研究进展 cgs2023年5月20日 气炼制砣是利用氢氧焰作为热源来加热石英砂或天然石英的方法制备石英砣。2、等离子制砣是利用等离子 体为热源，将原料熔化沉积制砣。 百度首页 商城 注册 登录 资讯 视频 图片 知道 文库 贴吧 采购 地图 更多 答案 我要提问 气炼 气炼石英砣生产流程百度知道2012年8月13日 七十年代石英玻璃形成行业；八十年代引进了电弧坩埚，等离子制砣 36引进等离子二步法工艺 北京605厂从法国引进二步法装备，等离子打砣机三台，无接触拉管设备，生产高质量石英 玻璃管，主要用于光纤包皮管。 98产量12吨，800万。 37合资 石英管生产工艺大全rtf 豆丁网
石英玻璃的制备与应用pdf 6页 原创力文档
2016年3月28日 近年来开发 的用氢氧火焰连续熔制石英玻璃砣的 息、半导体光纤通信、电光源、化工等行业。 为原料、等离子法生产石英玻璃空心砣后再拉制成管 3．4．3气相沉积法 材 。 以SiC1和掺杂物的低沸点化合物为原料，在一 4．1．2高纯石英玻璃套管 高频等离子体化学气相沉积工艺技术在化工、新材料制备等各方面得到越来越广泛的应用，作为一种洁净的生产工艺，国内外的科研工作者投入了大量的工作进行等离子体化学气相沉积工艺的研究和实验，在工艺设备和理论上进行了探索，取得了一定的成绩和石英玻璃等离子化学气相沉积法制备工艺百度文库等离子体外部沉积 (POD) 该工艺使用等离子体热源来“灼烧”化学前驱物，并在旋转靶材上沉积薄玻璃层。靶材可以是一个管件或一个实心棒，不一定是圆形。由于等离子体的高温性，这种工艺最适合生产掺氟熔融石英。二氧化硅中可达到的最大氟含量是 Heraeus Conamic 天然石英玻璃和合成熔融石英的制造2024年3月19日 三 离子注入设备 31 基本结构 离子注入设备包括7个基本模块：①离子源和吸极；②质量分析仪（即分析磁体）；③加速管；④扫描盘；⑤静电中和系统；⑥工艺腔；⑦剂量控制系统。所有模块都处在由真空系统建立的真空环境中。离子注入机的 半导体工艺与设备6离子注入工艺及设备 知乎
等离子灰化机 Plasma
等离子灰化机 – 位于 Ebhausen 的 Diener electronic GmbH + Co KG – 您的等离子设备和聚对二甲苯设备合作伙伴。 现在了解！通过 蚀刻 于氧气等离子体中进行，能够很好的分解碳氢化合物。 这种效果在进行 等离子清洗 时用于去除聚合的表面污染物（例如：蜡、 硅酮、油和油脂）。使用等离子体的制程需要等离子体监测仪。等离子体监测仪用于监控半导体制程中的等离子体发射，例如蚀刻和溅射。HORIBA 为等离子体工艺提供两个现场实时等离子体监测仪： 光发射光谱学蚀刻终点监测仪可以准确、重复地发出等离子体蚀刻终点的信号。等离子体监测仪 Horiba等离子炬雾化制粉设备(AVIPA)，是以纯金属或合金丝材为原料制备球形粉末的工艺，主要用于制备纯钛及钛合金、镍基合金、镍钛形状记忆合金等粉末，粉末产品广泛应用于增材制造（3D打印）、粉末冶金、热等静压、注射成形等制造工艺领域。等离子炬雾化制粉设备 中航迈特大气等离子清洗设备SAP013 ．各式材料之表面清洁、活化或改质 ．增加黏着或附着性 ．提升组件封装、黏着或印刷之可靠度 ．操作简单，可调整等离子功率、处理距离、清洁速度及气体种类等 ．可清洁物品材质：玻璃、塑料、金属、陶瓷、橡胶等大气等离子清洗设备｜等离子技术 馗鼎奈米科技股份有限公司
在等离子熔融工艺过程中，将高纯石英砂注入到旋转炉中
2020年10月26日 与等离子熔融工艺石英玻璃成型设备配套的真空系统框如 £ 2 所示，可实现 成型设备加热桶内的真空度（气压）在01~700Torr范围内的精确控制，控制精度可 达到±1%以内。 £ 2 真空系统框 如 £ 2所示，真空系统的设计采用了下游控制模式，也可 2014年5月10日 CVD制程工艺及设备介绍等离子体（Plasma）形成中电子碰撞引发的过程类型 说明分解(Dissociation) e+CCl4 →e+Cl+CCl3电离(Ionization) e+Ar→2e+ Ar+激发(Excitation) 电子跃迁图例PECVD 原理反应气体在高温和高频射频电源作用下形成等离子体（整体呈现 CVD制程工艺及设备介绍百度文库2015年12月23日 3 CN A 说明书 1/8 页 Fra Baidu bibliotek 石英玻璃制砣机 技术领域 [0001] 本发明涉及机械设备技术领域，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。 背景技术 [0002] 石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分 布 石英玻璃制砣机[发明专利] 百度文库2008年11月17日 331引言61 332CVD工艺61 333VAD合成工艺65 34高频等离子火焰熔制合成石英玻璃砣及粉料厚壁管66 341高频等离子体生成原理和设备67 342立式熔制实心砣70 343卧式熔制厚壁管72 3 5掺杂石英玻璃72 351掺杂石英玻璃的掺杂 图书详情 化学工业出版社有限公司 cip
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CVD制程工艺及设备介绍百度文库
2014年5月10日 CVD制程工艺及设备介绍人为产生等离子体的主要方法 其中辉光放电(Glow Discharge）所产生的等离子体在薄膜材料的制备技术中得到了非常广泛 的应用，Sputter和CVD设备采用的正是辉光放电来产生等离子体。 等离子体（Plasma）形成中电子碰撞引发的 本发明涉及一种低羟基实心石英砣的制备方法，属石英玻璃熔制技术领域。它是用等离子体装置作为热源，取代传统气炼制砣设备中的氢氧焰燃烧器，将石英粉料送入等离子体装置中或通过下料管进入火焰区，喷洒到石英玻璃靶托上，通过石英靶托的匀速旋转和下降运动，使靶面与等离子火焰 CNA 一种低羟基实心石英砣的制备方法 Google 2024年10月10日 等离子体熔制法是采用等离子体为热源，高纯石英砂为原料，直接熔融制备得到石英玻璃。 该方法熔制过程中不会引入外界杂质，因而采用等离子熔制法制备的石英玻璃纯度高、羟基含量低。玻璃材料中的这颗“皇冠”，如何打造？要闻资讯中国粉体网2018年8月30日 光纤行业要求石英材料的红外透过能力，只能选择高纯进口粉料+等离子制砣工艺制取的石英材料，或采用化学合成工艺制取的合成石英材料；半导体工艺尽量选择气炼法或等离子法取得的材料，电光源等低价值应用本身不要求石英材料的高纯度，所以可以选择低【干货】做半导体用石英材料的10年经验总结工艺
技术 一文了解光学合成石英玻璃的制备工艺及优缺点！
2019年1月3日 2、等离子化学气相沉积工艺（PCVD） 等离子化学气相沉积工艺是指采用高纯SiCl4为原料，以高频等离子体火焰代替氢氧火焰气相合成石英玻璃。 与传统电熔工艺制备的石英玻璃统称为红外石英玻璃，国内牌号为JGS3。本发明涉及机械设备，特别是涉及一种石英玻璃制砣机。背景技术石英玻璃可采用氢氧焰或等离子体为热源，原料可采用水晶粉在石英基底表面分布熔融制备而成；或采用含硅前驱体(通常为SiCl4)原料经水解或氧化反应产生的S1jfi米颗粒在石英基底表面沉积熔融制备而成。石英玻璃制砣机是制备上述 石英玻璃制砣机的制作方法